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ECR 플라즈마 화학기상증착법에 의한 0.12nm SiO2 환산두께를 갖는 Pb(Zr, Ti)O3 유전박막의제조 김재환; 김용일; 위당문; 이원종, 한국재료학회지, v.7, no.8, pp.635 - 639, 1997-04 |
ECR-PECVD법을 사용한 ULSI DRAM 용 PZT 박막 제조 김재환; 신중식; 김성태; 노광수; 위당문; 이원종, 한국진공학회지, v.4, no.1, pp.145 - 150, 1995-04 |
플라즈마 화학증착한 알루미늄 산화박막의 CCl₄ 플라즈마에서의 반응성 이온식각 특성 김재환; 김형석; 이원종, 한국세라믹학회지, v.31, no.5, pp.485 - 490, 1994-05 |
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