Showing results 1 to 7 of 7
0.25 ㎛ 리소그라피 공정에서 무반사층의 응용 노광수; 배병수; 전병혁; 한상수; Jiang, ZT; 김용범; 김동완; et al, 광학 및 양자전자 학술 발표회, 1996-01-01 |
An Overview and Future Development of Single-Layer Halftone Phase-shifting Mask (SLHTPSM) Materials for DUV Microlithography 배병수; Jiang, ZT; 홍승범; Kim, EH; Lim, SC; Woo, SG; 고영범; et al, 한국요업학회 추계학술발표대회 , 한국요업학회, 1996 |
Antireflective coating of flourinated silicon nitride for KrF excimer laser lithography 노광수; 배병수; 전병혁; 한상수; 이준성; 김용범; 강호영; et al, 제 4회 한국 반도체 학술대회, 한국 반도체 학술대회, 1997 |
CrF 광학박막의 제조 및 특성 평가 노광수; 김은아; 배병수; 고영범; 우상균; 임성출; Jiang, Zhong-Tao; et al, 한국요업학회 춘계학술발표대회, 한국요업학회, 1996-01-01 |
CrFx 변조 위상변위마스크의 모사연구 노광수; 김은아; 고영범; 우상균; 임성출; 배병수; 장종도; et al, 광학 및 양자전자 학술 발표회, 1996-01-01 |
DUV 리소그라피공정에서 TiOx 박막의 무반사층으로의 응용성 노광수; 전병혁; 고영범; 강호영; 김동완; 배병수; 이준성; et al, 한국재료학회 춘계학술발표대회, 한국재료학회, 1996-01-01 |
박막의 결정성과 양자역학적인 상수간의 관계에 대한 연구 노광수; 홍승범; 배병수; 고영범; Jiang, ZT; 우상균; 임성출; et al, 한국재료학회 춘계학술발표대회, 한국재료학회, 1996-01-01 |
Discover