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0.25 ㎛ 리소그라피 공정에서 무반사층의 응용 노광수; 배병수; 전병혁; 한상수; Jiang, ZT; 김용범; 김동완; et al, 광학 및 양자전자 학술 발표회, 1996-01-01 |
Antireflective coating of flourinated silicon nitride for KrF excimer laser lithography 노광수; 배병수; 전병혁; 한상수; 이준성; 김용범; 강호영; et al, 제 4회 한국 반도체 학술대회, 한국 반도체 학술대회, 1997 |
DUV 리소그라피공정에서 TiOx 박막의 무반사층으로의 응용성 노광수; 전병혁; 고영범; 강호영; 김동완; 배병수; 이준성; et al, 한국재료학회 춘계학술발표대회, 한국재료학회, 1996-01-01 |
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