Showing results 1 to 2 of 2
A chemically amplified molecular resist containing tertiary caprolactone for EUV lithography 정선화; 조경천; 김진백, 2012 추계 한국고분자학회, 대한 고분자 학회, 2012-10-12 |
A novel molecular resist for EUV lithography = 극 자외선 리소그래피용 분자 레지스트에 관한 연구link Jeong, Sun-Hwa; 정선화; et al, 한국과학기술원, 2013 |
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