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Polymeric and molecular resists for short wavelength lithography = 단파장 리소그라피용 고분자 및 분자 레지스트link Yun, Hyo-Jin; 윤효진; et al, 한국과학기술원, 2002 |
Selective positioning of thermo curable materials using photolithography = 리소그래피를 이용한 열경화성 물질의 선택적 도포에 관한 연구link Cho, Young-Ook; 조영욱; et al, 한국과학기술원, 2013 |
Synthesis of copolymers with diazo groups and their application as DUV resists = 다이아조기를 포함하는 고분자의 합성과 레지스트로서의 응용link Kim, Kyoung-Seon; 김경선; et al, 한국과학기술원, 2005 |
Synthesis of norbornene copolymers with β-keto ester groups and their application as photoresists = 베타-케토 에스테르기를 노르보넨 측쇄에 함유하는 공중합체의 합성과 포토레지스트로서의 응용link Kim, Kyoung-Seon; 김경선; et al, 한국과학기술원, 2001 |
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