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On ion energy control of dual frequency capacitive coupled plasma for high aspect ratio process = 고 종횡비 공정을 위한 이중 주파수 축전 결합 플라즈마의 이온 에너지 제어 연구link Park, Gi-Jung; 박기정; et al, 한국과학기술원, 2016 |
On the uniformity of electric field controlled plasma sources = 전기장으로 제어된 플라즈마 소스의 균일도에 관한 연구link Lee, Yong-Kwan; 이용관; et al, 한국과학기술원, 2003 |
Parallelizability of helicon and inductively coupled plasma sources for large-area processing = 대면적 공정을 위한 헬리콘과 유도결합 플라즈마 소스의 평행화 연구link An, Sang-Hyuk; 안상혁; et al, 한국과학기술원, 2011 |
박막형 실리콘 태양전지 증착을 위한 대면적 고속 증착장비 연구 = Study on the VHF multi-electrode CCP for the microcrystalline silicon thin film solar cellslink 이윤성; Lee, Yun-Seong; et al, 한국과학기술원, 2013 |
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