Showing results 1 to 2 of 2
On the uniformity of electric field controlled plasma sources = 전기장으로 제어된 플라즈마 소스의 균일도에 관한 연구link Lee, Yong-Kwan; 이용관; et al, 한국과학기술원, 2003 |
Parallelizability of helicon and inductively coupled plasma sources for large-area processing = 대면적 공정을 위한 헬리콘과 유도결합 플라즈마 소스의 평행화 연구link An, Sang-Hyuk; 안상혁; et al, 한국과학기술원, 2011 |
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