ECR-플라즈마 화학 증착법에 의해 탄탈륨 산화 박막 제조시 증착 변수 및 열처리 조건이 증착층의 전기적 성질에 미치는 영향The effects of the deposition variable and annealing condition on the electrical properties of the Ta2O5 thin films deposited by ECR-PECVD

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dc.contributor.advisor천성순-
dc.contributor.advisorChun, Soung-Soon-
dc.contributor.author조복원-
dc.contributor.authorCho, Bok-Won-
dc.date.accessioned2011-12-15T01:40:41Z-
dc.date.available2011-12-15T01:40:41Z-
dc.date.issued1994-
dc.identifier.urihttp://library.kaist.ac.kr/search/detail/view.do?bibCtrlNo=69525&flag=dissertation-
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/10203/51255-
dc.description학위논문(석사) - 한국과학기술원 : 전자재료공학과, 1994.2, [ iv, 114 p. ]-
dc.languagekor-
dc.publisher한국과학기술원-
dc.titleECR-플라즈마 화학 증착법에 의해 탄탈륨 산화 박막 제조시 증착 변수 및 열처리 조건이 증착층의 전기적 성질에 미치는 영향-
dc.title.alternativeThe effects of the deposition variable and annealing condition on the electrical properties of the Ta2O5 thin films deposited by ECR-PECVD-
dc.typeThesis(Master)-
dc.identifier.CNRN69525/325007-
dc.description.department한국과학기술원 : 전자재료공학과, -
dc.identifier.uid000923483-
dc.contributor.localauthor조복원-
dc.contributor.localauthorCho, Bok-Won-
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MS-Theses_Master(석사논문)
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