반응성 CVD를 이용한 다결정 실리콘 기판에서의 $CoSi_2$ layer의 성장거동과 열적 안정성에 관한 연구Growth behavior and thermal stability of $CoSi_2$ layer on poly-Si substrate using reactive chemical vapor deposition
| DC Field | Value | Language |
|---|---|---|
| dc.contributor.advisor | 안병태 | - |
| dc.contributor.advisor | Ahn, Byung-Tae | - |
| dc.contributor.author | 김선일 | - |
| dc.contributor.author | Kim, Sun-Il | - |
| dc.date.accessioned | 2011-12-15T01:34:01Z | - |
| dc.date.available | 2011-12-15T01:34:01Z | - |
| dc.date.issued | 2001 | - |
| dc.identifier.uri | http://library.kaist.ac.kr/search/detail/view.do?bibCtrlNo=169432&flag=dissertation | - |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/10203/50843 | - |
| dc.description | 학위논문(석사) - 한국과학기술원 : 재료공학과, 2001.8, [ 75 p. ] | - |
| dc.language | kor | - |
| dc.publisher | 한국과학기술원 | - |
| dc.subject | 화학기상증착법 | - |
| dc.subject | 열적안정성 | - |
| dc.subject | 코발트 실리사이드 | - |
| dc.subject | TiN | - |
| dc.subject | chemical vapor deposition | - |
| dc.subject | thermal stability | - |
| dc.title | 반응성 CVD를 이용한 다결정 실리콘 기판에서의 $CoSi_2$ layer의 성장거동과 열적 안정성에 관한 연구 | - |
| dc.title.alternative | Growth behavior and thermal stability of $CoSi_2$ layer on poly-Si substrate using reactive chemical vapor deposition | - |
| dc.type | Thesis(Master) | - |
| dc.identifier.CNRN | 169432/325007 | - |
| dc.description.department | 한국과학기술원 : 재료공학과, | - |
| dc.identifier.uid | 020003083 | - |
| dc.contributor.localauthor | 안병태 | - |
| dc.contributor.localauthor | Ahn, Byung-Tae | - |
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- MS-Theses_Master(석사논문)
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