원거리 플라즈마를 이용한 CVD(Chemical Vapor Deposition)에 관한 연구 = The study on the plasma enhanced chemical vapor deposition(RPECVD)

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기존의 화학 증착법에 의한 방법들의 여러가지 문제점들이 있다. 효율성이 떨어지는 것과 웨이프가 열이나 플라즈마에 의해 손상을 입는 등이 그 문제점들이다. 이런 문제점을 효과적으로 막기 위해 원거리 플라즈마를 이용하여 증착을 할 수 있는 방법을 실험하였다. 플라즈마 영역과 증착이 일어나는 영역을 나누어서 플라즈마 영역에서 플라즈마를 발생시켜서 반응성이 좋은 라디칼들을 만들어 증착이 일어나는 영역으로 보내는 것이다. 실험에서는 산소 플라즈마를 이용하여 플라즈마 영역에서 높은 압력과 작은 공간에서 플라즈마가 발생하는 것을 보았고, 증착영역에 라디칼들이 효과적으로 내려오는지를 관찰하였다.
Advisors
장홍영researcherChang, Hong-Youngresearcher
Description
한국과학기술원 : 물리학과,
Publisher
한국과학기술원
Issue Date
2000
Identifier
158083/325007 / 000983506
Language
kor
Description

학위논문(석사) - 한국과학기술원 : 물리학과, 2000, [ iv, 43 p. ]

Keywords

Oxygen plasma; Remote plasma; 산소 플라즈마; 원거리 플라즈마; 화학적 증착법; CVD(Chemical Vapor Deposition)

URI
http://hdl.handle.net/10203/48535
Link
http://library.kaist.ac.kr/search/detail/view.do?bibCtrlNo=158083&flag=dissertation
Appears in Collection
PH-Theses_Master(석사논문)
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