원거리 플라즈마를 이용한 CVD(Chemical Vapor Deposition)에 관한 연구

Abstract

기존의 화학 증착법에 의한 방법들의 여러가지 문제점들이 있다. 효율성이 떨어지는 것과 웨이프가 열이나 플라즈마에 의해 손상을 입는 등이 그 문제점들이다. 이런 문제점을 효과적으로 막기 위해 원거리 플라즈마를 이용하여 증착을 할 수 있는 방법을 실험하였다. 플라즈마 영역과 증착이 일어나는 영역을 나누어서 플라즈마 영역에서 플라즈마를 발생시켜서 반응성이 좋은 라디칼들을 만들어 증착이 일어나는 영역으로 보내는 것이다. 실험에서는 산소 플라즈마를 이용하여 플라즈마 영역에서 높은 압력과 작은 공간에서 플라즈마가 발생하는 것을 보았고, 증착영역에 라디칼들이 효과적으로 내려오는지를 관찰하였다.