L∞ 메트릭을 이용한 다각형의 보로노이 다이어그램 계산과 마스크 없는 리소그라피에의 적용

Abstract

포토마스크를 이용한 리소그라피는 최근 PCB, 반도체, VLSI, FPD(Flat Panel Display) 및 MEMS/NEMS 장치 제조 산업에 다양하게 사용되고 있다. 하지만 리소그라피 프로세스에 사용되는 chip 및 기판의 크기가 작아지고 패턴이 복잡해짐에 따라, 리소그라피 공정에서 사용되는 마스크 생산 비용과 시간이 많이 소요되고 있다. 특히 생산량이 적을 때 포토마스크 생산은 비용 증가의 주원인이 된다. 이에 마스크를 이용하지 않는 maskless lithography 기술이 도입되었다. 이 논문에서는 maskless lithogrphy에 필요한 효율적인 lithography 경로를 계산하는 문제를 다룬다. 대상으로 하는 장비는 XY 테이블 위에 기판이 놓여 있고, 그 위에 작업 대상을 놓을 수 있게 되어있다. 테이블 윗부분에 광원을 다루는 부분인 optical unit이 있다. 레이저 빔이 나오는 부분의 아래 부분에는 정사각형 모양의 크기가 연속적으로 변하는 경구가 있다. 이 논문에서는 L∞ 메트릭(체스보드 메트릭)을 이용한 보로노이 다이어그램과 중심축변환을 이용하여 리소그라피 경로를 생성하는 방법을 제안한다. 이 때 사용하는 다각형의 L∞ 보로노이 다이어그램 계산 방법 역시 논문에 제시될 것이다. 제안된 방법은 리소그라피 자체에 이용될 뿐만 아니라, LCD, PDP 또는 OLED와 같은 FPD(Flat Panel Display)의 결함 수정에도 이용될 수 있다. 또한 이러한 방법은 쾌속 조형을 통해 3D 모델을 만들 때 사용되는 적층 방식의 리소그라피에도 적용할 수 있다.