DC Field | Value | Language |
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dc.contributor.advisor | 신형철 | - |
dc.contributor.advisor | Shin, Hyung-Cheol | - |
dc.contributor.author | 최석진 | - |
dc.contributor.author | Choi, Seok-Jin | - |
dc.date.accessioned | 2011-12-14T01:42:40Z | - |
dc.date.available | 2011-12-14T01:42:40Z | - |
dc.date.issued | 1998 | - |
dc.identifier.uri | http://library.kaist.ac.kr/search/detail/view.do?bibCtrlNo=134875&flag=dissertation | - |
dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/10203/37091 | - |
dc.description | 학위논문(석사) - 한국과학기술원 : 전기및전자공학과, 1998.2, [ iii, 64 p. ] | - |
dc.description.abstract | 매우 얇은 열 질화 막을 IR-furnace를 이용하여 암모니아 분위기에서 성장시켰다. AES측정을 통해 막의 성분을 분석하였다. MIS소자를 제작하여 C-V, I-V, time-dependent breakdown, trapping,dielectric berakdown 전계 등의 전기적 특성을 분석하였다. 이러한 분석 결과들은 얇은 열 질화 막이 미래의 VLSI소자의 게이트 물질로 사용되어 질 수 있음을 보여주었다. 열 질화 막을 이용하여 MOSFET과 EEPROM을 제작, 측정하여 보았다. MOSFET측정 결과 이동도의 저하 현상이 나타났지만 이전에 제작된 ECR 질화 막 소자에 비해서는 저하 현상이 심하지 않았다. EEPROM에서는 게이트로의 누설 전류가 너무 많아 성공적인 동작을 확인하지 못했다. | kor |
dc.language | kor | - |
dc.publisher | 한국과학기술원 | - |
dc.subject | EEPROM | - |
dc.subject | Thermal nitride | - |
dc.subject | 프로그래밍 | - |
dc.subject | 누설 전류 | - |
dc.subject | 스트레스 | - |
dc.subject | 터널링 전류 밀도 | - |
dc.subject | 전위 장벽 | - |
dc.subject | 열 질화 막 | - |
dc.subject | F-N tunneling current | - |
dc.subject | Endurance | - |
dc.subject | Coupling ratio | - |
dc.subject | Charge to breakdown | - |
dc.subject | Trapping | - |
dc.subject | Stress-induced leakage current | - |
dc.subject | Electron wave interference | - |
dc.subject | VTGI | - |
dc.subject | Potential barrier | - |
dc.subject | RTP | - |
dc.title | 저 전력, 고속 구동의 EEPROM을 위한 열 질화 막에 관한 연구 | - |
dc.title.alternative | A study on thermal nitride for low-power and high-speed operating EEPROM | - |
dc.type | Thesis(Master) | - |
dc.identifier.CNRN | 134875/325007 | - |
dc.description.department | 한국과학기술원 : 전기및전자공학과, | - |
dc.identifier.uid | 000963621 | - |
dc.contributor.localauthor | 신형철 | - |
dc.contributor.localauthor | Shin, Hyung-Cheol | - |
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