화학기상 증착공정을 이용한 고신축성 초소수성 박막 및 그 제조방법Highly Stretchable Superhydrophobic Thin Film Using Chemical Vapor Deposition Process (iCVD) and Method of Preparing the Same
| DC Field | Value | Language |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | 임성갑 | ko |
| dc.contributor.author | 오명석 | ko |
| dc.contributor.author | 전민규 | ko |
| dc.date.accessioned | 2024-04-18T09:01:27Z | - |
| dc.date.available | 2024-04-18T09:01:27Z | - |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/10203/319117 | - |
| dc.description.abstract | 본 발명은 화학기상 증착공정을 이용한 고신축성 초소수성 박막 및 그 제조방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 화학기상 증착 반응기에서 개시제 존재하에 기판 상에 4~6개의 플루오로화 알킬기를 함유하고 유리전이온도가 5℃ 이하인 불소 단량체와 가교결합용 단량체를 반응시켜 기판 상에 공중합체 형태로 나노미터 수준으로 코팅함으로써 폴더블(foldable) 및 웨어러블(wearable) 소자 등에서 내구성을 확보할 수 있는 화학기상 증착공정을 이용한 고신축성 초소수성 박막 및 그 제조방법에 관한 것이다. | - |
| dc.title | 화학기상 증착공정을 이용한 고신축성 초소수성 박막 및 그 제조방법 | - |
| dc.title.alternative | Highly Stretchable Superhydrophobic Thin Film Using Chemical Vapor Deposition Process (iCVD) and Method of Preparing the Same | - |
| dc.type | Patent | - |
| dc.type.rims | PAT | - |
| dc.contributor.localauthor | 임성갑 | - |
| dc.contributor.assignee | 한국과학기술원 | - |
| dc.identifier.iprsType | 특허 | - |
| dc.identifier.patentApplicationNumber | 10-2021-0055735 | - |
| dc.identifier.patentRegistrationNumber | 10-2642509-0000 | - |
| dc.date.application | 2021-04-29 | - |
| dc.date.registration | 2024-02-26 | - |
| dc.publisher.country | KO | - |
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