본 발명의 실시 형태에 따른 2차원 물질의 전사 방법은, 호일에 2차원 물질을 합성하여 호일에 2차원 물질층을 형성하는 단계; 고체 상태의 고분자 막을 상기 2차원 물질층에 전사하는 단계; 상기 호일을 제거하는 단계; 상기 고분자 막과 상기 2차원 물질층을 기판에 전사하는 단계; 및 상기 고분자 막을 상기 2차원 물질층으로부터 제거하는 단계;를 포함한다. 이러한 실시 형태에 따른 2차원 물질의 전사 방법은, 고체 상태의 고분자 막을 사용하기 때문에, 기판에 전사된 2차원 물질층에 고분자 잔류물이 생기지 않고, 대면적의 기판에도 안정적으로 2차원 물질층을 전사할 수 있으며, 고체 상태의 고분자 막을 2차원 물질층에서 쉽게 제거할 수 있는 이점이 있다.