블록공중합체-결합 양자점 전구체 및 레이저 유도 어닐링을 이용한 양자점 나노구조체 및 양자점 패턴block copolymer-conjugated quantum dot precursor and quantum dot nanostructure and quantum dot pattern using laser induced annealing

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dc.contributor.author정연식ko
dc.contributor.author전덕영ko
dc.contributor.author김경목ko
dc.contributor.author심동민ko
dc.date.accessioned2024-02-20T02:00:42Z-
dc.date.available2024-02-20T02:00:42Z-
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/10203/318140-
dc.description.abstract본 발명은 블록공중합체-결합(conjugated) 양자점 전구체 및 레이저 유도 어닐링을 이용한 양자점 나노구조체 및 양자점 패턴에 관한 것으로, 양자점 전구체 및 블록공중합체를 포함하여 이루어지고, 상기 블록공중합체는 발광효율을 높이기 위해 상기 양자점 전구체와 화학적으로 배위결합하는 것을 특징으로 하는 블록공중합체-결합(conjugated) 양자점 전구체를 제공하고, 또한 양자점 전구체를 준비하고, 블록공중합체를 준비하고, 상기 양자점 전구체와 상기 블록공중합체가 화학적으로 결합하여 블록공중합체-결합(conjugated) 양자점 전구체를 형성하고, 상기 블록공중합체-결합(conjugated) 양자점 전구체를 기재에 도포하여 블록공중합체-결합(conjugated) 양자점 전구체 필름을 형성하고, 상기 필름을 어닐링하여 상기 블록공중합체-결합(conjugated) 양자점 전구체가 양자점을 합성함과 동시에 자기조립현상(self-assembly)을 통해 양자점 나노구조체를 형성하는 단계를 포함하여 이루어지고, 상기 블록공중합체-결합(conjugated) 양자점 전구체는 본 발명에 따른 블록공중합체-결합(conjugated) 양자점 전구체이고, 상기 어닐링은 상기 필름에 레이저 조사를 통해 수행하는 것을 특징으로 하는 양자점 나노구조체 제조 방법을 제공한다.-
dc.title블록공중합체-결합 양자점 전구체 및 레이저 유도 어닐링을 이용한 양자점 나노구조체 및 양자점 패턴-
dc.title.alternativeblock copolymer-conjugated quantum dot precursor and quantum dot nanostructure and quantum dot pattern using laser induced annealing-
dc.typePatent-
dc.type.rimsPAT-
dc.contributor.localauthor정연식-
dc.contributor.localauthor전덕영-
dc.contributor.assignee한국과학기술원-
dc.identifier.iprsType특허-
dc.identifier.patentApplicationNumber10-2015-0143604-
dc.identifier.patentRegistrationNumber10-1789380-0000-
dc.date.application2015-10-14-
dc.date.registration2017-10-17-
dc.publisher.countryKO-
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