다중 스펙트럼 탐지에 대한 위장 패턴의 제조 방법, 위장 패턴의 최적화 방법 및 이를 위한 전자 장치MANUFACTURING METHOD OF CAMOUFLAGE PATTERN FOR MULTISPECTRAL DETECTION, OPTIMIZATION METHOD OF CAMOUFLAGE PATTERN AND ELECTRONIC DEVICE FOR THE SAME
본 개시에 따르면, 제1 스펙트럼 영역에 대한 제1 위장 패턴과 대응하는 마스크 패턴을 형성하는 단계, 상기 마스크 패턴으로 폴리머 필름을 가공하여 폴리머 패턴을 형성하는 단계, 상기 폴리머 패턴을 제2 스펙트럼 영역에 대한 제2 위장 패턴 상에 부착하여 단위 위장 패턴을 형성하는 단계 및 상기 단위 위장 패턴을 반복적으로 배열한 후 일부 영역을 선택하여 크롭핑하는 단계를 포함하는, 다중 스펙트럼 탐지에 대한 위장 패턴의 제조 방법, 위장 패턴의 최적화 방법 및 이를 위한 전자 장치가 제공된다.
- Assignee
- 한국과학기술원, 국방과학연구소
- Country
- KO (South Korea)
- Application Date
- 2023-02-22
- Application Number
- 10-2023-0023868
- Registration Date
- 2023-05-31
- Registration Number
- 10-2540113-0000
- Appears in Collection
- EE-Patent(특허)
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