마이크로 볼로미터의 스케일링을 위한 구조 최적화에 대한 연구(A) study on structure optimization for scaling-down microbolometer

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마이크로 볼로미터의 픽셀 피치 스케일링은 그 장점들로 인해 점진적으로 이루어져 왔다. 이전 연구실에서 개발한 35um 픽셀의 공정과 구조를 이용하여 17um 스케일링할 경우 픽셀의 성능 열화가 심하게 나타나게 된다. 본 학위논문에서는 기존 공정을 유지하고 구조적인 측면에서 이러한 성능열화를 막고자 광학적, 전기적, 기계적 특성들을 동시에 최적화시키는 접근법들을 제시하고자 한다.
Advisors
이귀로researcherLee, Kwyroresearcher
Description
한국과학기술원 :전기및전자공학부,
Publisher
한국과학기술원
Issue Date
2017
Identifier
325007
Language
kor
Description

학위논문(석사) - 한국과학기술원 : 전기및전자공학부, 2017.8,[v, 106 p. :]

Keywords

마이크로 볼로미터▼aNETD▼a다층 공진 구조▼a이중 적층 구조▼a구조적 변형; Microbolometer▼aNETD▼aMulti-layered resonant structure▼aDouble layer structure▼aStructural deformation

URI
http://hdl.handle.net/10203/309995
Link
http://library.kaist.ac.kr/search/detail/view.do?bibCtrlNo=1007055&flag=dissertation
Appears in Collection
EE-Theses_Master(석사논문)
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