유전체 직물 재료에 전도성 패턴을 형성하는 방법 및 유전체 직물 재료와 결합된 전도성 패턴을 포함하는 전자파 흡수체METHOD FOR FORMING CONDUCTIVE PATTERN ON DIELECTRIC FABRIC MATERIAL AND ELECTROMAGNETIC WAVE ABSORBER INCLUDING CONDUCTIVE PATTERN COUPLED TO DIELECTRIC FABRIC MATERIAL
| DC Field | Value | Language |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | 김천곤 | ko |
| dc.contributor.author | 장민수 | ko |
| dc.contributor.author | 장우혁 | ko |
| dc.contributor.author | 진도현 | ko |
| dc.date.accessioned | 2023-04-07T00:00:25Z | - |
| dc.date.available | 2023-04-07T00:00:25Z | - |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/10203/306048 | - |
| dc.description.abstract | 유전체 직물 상에 전도성 패턴을 형성하는 방법은, 유전체 직물에 금속 코팅층을 형성하는 단계, 상기 유전체 직물의 적어도 일면 상에 드라이 포토레지스트 필름을 배치하는 단계, 상기 유전체 직물 상에 배치된 드라이 포토레지스트 필름에 진공을 제공하여 상기 유전체 직물과 상기 드라이 포토레지스트 필름을 밀착시키는 단계, 상기 드라이 포토레지스트 필름 상에 탄성체를 배치하고, 상기 드라이 포토레지스트 필름을 가열 가압하는 단계, 상기 드라이 포토레지스트 필름을 노광 및 현상하여 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계 및 상기 포토레지스트 패턴을 마스크로 이용하여 노출된 영역의 금속 코팅층을 제거하는 단계를 포함한다. 이에 따르면, 전도성 패턴이 형성된 유전체 직물의 패턴 정밀도를 향상시킬 수 있다. | - |
| dc.title | 유전체 직물 재료에 전도성 패턴을 형성하는 방법 및 유전체 직물 재료와 결합된 전도성 패턴을 포함하는 전자파 흡수체 | - |
| dc.title.alternative | METHOD FOR FORMING CONDUCTIVE PATTERN ON DIELECTRIC FABRIC MATERIAL AND ELECTROMAGNETIC WAVE ABSORBER INCLUDING CONDUCTIVE PATTERN COUPLED TO DIELECTRIC FABRIC MATERIAL | - |
| dc.type | Patent | - |
| dc.type.rims | PAT | - |
| dc.contributor.localauthor | 김천곤 | - |
| dc.contributor.assignee | 한국과학기술원 | - |
| dc.identifier.iprsType | 특허 | - |
| dc.identifier.patentApplicationNumber | 10-2021-0088899 | - |
| dc.identifier.patentRegistrationNumber | 10-2483727-0000 | - |
| dc.date.application | 2021-07-07 | - |
| dc.date.registration | 2022-12-28 | - |
| dc.publisher.country | KO | - |
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