DC Field | Value | Language |
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dc.contributor.author | 이정철 | ko |
dc.contributor.author | 고주희 | ko |
dc.contributor.author | 김태영 | ko |
dc.date.accessioned | 2022-12-22T05:02:11Z | - |
dc.date.available | 2022-12-22T05:02:11Z | - |
dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/10203/303514 | - |
dc.description.abstract | 본 발명은 입자 측정장치 및 입자 측정방법에 관한 것이다. 구체적으로 본 발명의 일 실시예에 따르면, 웨이퍼; 상기 웨이퍼에 대하여 공진 운동 가능하도록 구성되는 공진채널, 및 광학채널을 포함하며, 상기 웨이퍼의 상면으로부터 소정 깊이에 배치되고, 소정의 입자를 포함하는 유체가 유동하기 위한 통로를 제공하는 캐비티채널; 상기 공진채널 및 상기 광학채널에 레이저빔 다발을 조사하고, 상기 공진채널 및 상기 광학채널에서 반사된 상기 레이저빔 다발을 수광하는 센싱모듈; 및 상기 센싱모듈에 수광된 상기 레이저빔 다발에 기초하여 상기 공진채널의 공진주파수, 및 상기 광학채널이 내에 유동하는 상기 입자의 광학성질을 도출함으로써 상기 입자를 검출하는 컨트롤러를 포함하고, 상기 웨이퍼에는, 상기 웨이퍼의 외부에서 상기 공진채널 및 상기 광학채널에 상기 레이저빔 다발이 조사되도록 하는 조사공간, 및 적어도 일부가 상방으로 개구된 형상을 갖고, 상기 캐비티채널과 연통하는 연통홀이 형성되는, 입자 측정장치가 제공될 수 있다. | - |
dc.title | 입자 측정장치 및 입자 측정방법 | - |
dc.title.alternative | APPARATUS FOR MEASURING PARTICLE AND METHOD FOR MEASURING PARTICLE | - |
dc.type | Patent | - |
dc.type.rims | PAT | - |
dc.contributor.localauthor | 이정철 | - |
dc.contributor.assignee | 한국과학기술원 | - |
dc.identifier.iprsType | 특허 | - |
dc.identifier.patentApplicationNumber | 10-2021-0066499 | - |
dc.identifier.patentRegistrationNumber | 10-2469917-0000 | - |
dc.date.application | 2021-05-24 | - |
dc.date.registration | 2022-11-18 | - |
dc.publisher.country | KO | - |
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