스퍼터링 장치Sputtering apparatus
고온 초전도체 테이프 선재용 후막 등을 제조하기에 적합한 스퍼터링 장치에 관해 개시한다. 본 발명의 장치는, 냉매에 의해 냉각되며 스퍼터링 공정시 회전하는 원형띠 형상의 스퍼터링 타겟을 사용하므로 파워를 증가시켜도 타겟이 과열되지 않는다. 따라서, 빠른 스퍼터링을 통해 증착속도를 높일 수 있다. 초전도체, 스퍼터링, 회전, 타겟, 냉각, 파워, 증착속도, 플라즈마, 감금
- Assignee
- 한국과학기술원
- Country
- KO (South Korea)
- Application Date
- 2003-02-18
- Application Number
- 10-2003-0010071
- Registration Date
- 2005-02-03
- Registration Number
- 10-0472046-0000
- Appears in Collection
- PH-Patent(특허)
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