노광 장치, 노광 방법 및 그에 따른 패턴 형성방법

Abstract

본 발명은 노광 장치, 노광 방법 및 그에 따른 패턴 형성방법 등에 관한 것이다. 더욱 구체적으로는, 본 발명은 기판상에 도포된 포토레지스트로 광을 조사하여 구조물 패턴을 형성하는 노광 장치, 노광 방법 등에 관한 것이다. 본 발명에 따른 노광 장치는 마스크와 정렬된 기판을 스테이지로 이송하는 이송부, 마스크와 기판이 이송되어 있는 스테이지의 경사각을 조절하는 경사조절부, 경사각이 조절된 스테이지를 회전시키는 회전부 및 회전하는 스테이지 상의 마스크와 기판에 광을 조사하는 광조사부를 포함한다. 본 발명에 따른 노광 장치는 기설정된 경사각으로 기울어진 상태에서 회전하는 스테이지를 이용하여 보다 다양하고 입체적이며, 균일한 패턴의 폴리머 몰드를 형성할 수 있다. 노광 장치, 노광(Exposing), 포토리소그래피(Photolithography), 포토레지스트(Photoresist, PR), 포토마스크, 얼라이너(Aligner)