박막제조장치Apparatus for fabricating thin film
| DC Field | Value | Language |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | 염도준 | ko |
| dc.contributor.author | 이병수 | ko |
| dc.contributor.author | 정국채 | ko |
| dc.date.accessioned | 2022-11-21T09:02:14Z | - |
| dc.date.available | 2022-11-21T09:02:14Z | - |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/10203/300360 | - |
| dc.description.abstract | 반응성 스퍼터링 증착의 경우 반응기체가 플라즈마화 되어 반응의 안정성에 나쁜 영향을 주게된다. 또한 반응기체가 스퍼터링 타겟 표면과 반응하여 스퍼터링 속도 및 박막 조성의 균일성이 떨어지게 된다. 그러나, 본 발명에 따른 박막제조장치에 의하면, 반응기체가 존재하는 반응공간과 스퍼터링 증착이 일어나는 스퍼터링 공간을 서로 분리하고 그 사이에 반응기체 및 스퍼터링용 기체를 배출하기 위한 펌핑 공간을 마련함으로써 두 기체의 혼합이 방지된 상태에서 박막을 제조할 수 있게된다. 그리고, 기판이 반응공간과 스퍼터링 공간을 번갈아 왕복할 수 있도록 되어 있기 때문에 증착공정과 반응공정이 연속적으로 이루어질 수 있게 된다. 따라서, 양질의 화합물 박막을 얻을 수 있게 된다. 스퍼터링, 반응성 스퍼터링, 플라즈마, 화합물 박막 | - |
| dc.title | 박막제조장치 | - |
| dc.title.alternative | Apparatus for fabricating thin film | - |
| dc.type | Patent | - |
| dc.type.rims | PAT | - |
| dc.contributor.localauthor | 염도준 | - |
| dc.contributor.nonIdAuthor | 이병수 | - |
| dc.contributor.nonIdAuthor | 정국채 | - |
| dc.contributor.assignee | 한국과학기술원 | - |
| dc.identifier.iprsType | 특허 | - |
| dc.identifier.patentApplicationNumber | 10-2001-0046343 | - |
| dc.identifier.patentRegistrationNumber | 10-0390576-0000 | - |
| dc.date.application | 2001-07-31 | - |
| dc.date.registration | 2003-06-26 | - |
| dc.publisher.country | KO | - |
- Appears in Collection
- PH-Patent(특허)
- Files in This Item
- There are no files associated with this item.
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.