융기형리튬니오베이트광도파로의제조방법

Abstract

본 발명은 융기형 리튬니오베이트 광도파로의 제조방법에 관한 것이다. 좀더 구체적으로, 본 발명은 단순한 공정에 의해 상온에서도 높은 식각율과 균일성이 뛰어난 식각결과를 얻을 수 있으며, 안정한 굴절율 및 전기광학효과를 지닌 광도파로를 얻을 수 있는 융기형 리튬니오베이트 광도파로의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명의 융기형 리튬니오베이트 광도파로의 제조방법은 리튬니오베이트 기판상에 금속 마스크를 형성하고 선택적 양자교환에 의해 기판상에 양자교환층을 형성하는 단계; 전기 양자교환층이 형성된 기판을 식각용액으로 습식식각하여 양자교환층을 식각하는 단계; 전기 식각된 기판상에 포토레지스트를 입히고 기판의 저면으로부터 광을 조사하여 선택적으로 포토레지스트를 감광하고 감광된 포토레지스트를 현상하여 양자교환 마스크를 증착하는 단계; 및, 전기 금속 마스크 및 금속 마스크상의 양자교환 마스크를 제거하여 기판을 양자교환하고 열처리하는 단계를 포함한다. 본 발명의 융기형 리튬니오베이트 광도파로 제조방법은 단순한 공정에 의해 상온에서도 높은 식각율과 균일성이 뛰어난 식각결과를 얻을 수 있어 단시간에 경제적으로 광도파로를 제조할 수 있다.