개시제를 이용한 화학기상증착장치initiated chemical vapor deposition apparatus
| DC Field | Value | Language |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | 조병진 | ko |
| dc.contributor.author | 김민주 | ko |
| dc.contributor.author | 정재중 | ko |
| dc.contributor.author | 박형상 | ko |
| dc.contributor.author | 탁영덕 | ko |
| dc.contributor.author | 김지혜 | ko |
| dc.date.accessioned | 2022-09-06T01:01:31Z | - |
| dc.date.available | 2022-09-06T01:01:31Z | - |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/10203/298351 | - |
| dc.description.abstract | 본 발명은 개시제를 이용한 화학기상증착장치에 관한 것으로, 더 상세하게는 재료소비를 절감하고, 균질한 대면적의 박막을 형성할 수 있는 화학기상증착장치 관한 것이다. 본 발명의 개시제를 이용한 화학기상증착장치는 내부에 기판이 장입되는 챔버; 상기 챔버 내부에 위치하며, 제1이격거리(d1)로 상기 기판과 이격되고 기상의 유기단량체 및 개시제를 상기 기판에 공급하는 상부노즐과, 상기 제1이격거리(d1)보다 짧은 제2이격거리(d2)로 상기 기판과 이격되고 기상의 금속 전구체를 상기 기판에 공급하는 하부노즐을 포함하는 이중샤워헤드부; 및 상기 상부노즐과 상기 기판 사이에 위치하며, 상기 상부노즐로부터 공급되는 개시제를 가열하는 열원;을 포함할 수 있다. | - |
| dc.title | 개시제를 이용한 화학기상증착장치 | - |
| dc.title.alternative | initiated chemical vapor deposition apparatus | - |
| dc.type | Patent | - |
| dc.type.rims | PAT | - |
| dc.contributor.localauthor | 조병진 | - |
| dc.contributor.nonIdAuthor | 박형상 | - |
| dc.contributor.nonIdAuthor | 탁영덕 | - |
| dc.contributor.nonIdAuthor | 김지혜 | - |
| dc.contributor.assignee | 한국과학기술원,(주)아이작리서치 | - |
| dc.identifier.iprsType | 특허 | - |
| dc.identifier.patentApplicationNumber | 10-2020-0079231 | - |
| dc.identifier.patentRegistrationNumber | 10-2437018-0000 | - |
| dc.date.application | 2020-06-29 | - |
| dc.date.registration | 2022-08-23 | - |
| dc.publisher.country | KO | - |
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