블록 공중합체를 이용한 미세 패턴의 형성 방법Method of forming fine pattern using a block copolymer
| DC Field | Value | Language |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | 정연식 | ko |
| dc.contributor.author | 허윤형 | ko |
| dc.contributor.author | 송승원 | ko |
| dc.date.accessioned | 2022-07-27T03:00:35Z | - |
| dc.date.available | 2022-07-27T03:00:35Z | - |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/10203/297618 | - |
| dc.description.abstract | 본 발명은 에칭 선택성이 우수한 블록 공중합체를 이용함으로써 LER 및 LWR을 최소화하여 고품질의 나노 패턴을 형성할 수 있는 미세 패턴의 형성 방법에 관한 것이다. | - |
| dc.title | 블록 공중합체를 이용한 미세 패턴의 형성 방법 | - |
| dc.title.alternative | Method of forming fine pattern using a block copolymer | - |
| dc.type | Patent | - |
| dc.type.rims | PAT | - |
| dc.contributor.localauthor | 정연식 | - |
| dc.contributor.nonIdAuthor | 허윤형 | - |
| dc.contributor.assignee | 에스케이이노베이션 주식회사,한국과학기술원 | - |
| dc.identifier.iprsType | 특허 | - |
| dc.identifier.patentApplicationNumber | 10-2017-0121027 | - |
| dc.identifier.patentRegistrationNumber | 10-2412137-0000 | - |
| dc.date.application | 2017-09-20 | - |
| dc.date.registration | 2022-06-17 | - |
| dc.publisher.country | KO | - |
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