복층의 패시브 매트릭스형 투명 기판 및 그 제조 방법MULTI-LAYERED PASSIVE MATRIX TYPE TRANSPARENT SUBSTRATE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF

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dc.contributor.author이승섭ko
dc.contributor.author김동진ko
dc.contributor.author조문형ko
dc.contributor.author이정우ko
dc.date.accessioned2022-05-18T03:00:23Z-
dc.date.available2022-05-18T03:00:23Z-
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/10203/296578-
dc.description.abstract일 실시 예에 따르면 복층의 패시브 매트릭스형 투명 기판 제조 방법은, 제 1 방향을 따라서 나란히 이격되고 서로 평행하게 배열되는 제 1 메시 라인 패턴을 포함하는 제 1 몰드를 통해 베이스 기판에 도포된 제 1 수지 층에 엠보싱하여 제 1 패턴 홈을 형성하는 단계; 상기 제 1 패턴 홈에 전도성 페이스트를 충진하여 제 1 메시 전극 라인을 형성하는 단계; 상기 제 1 방향과 다른 제 2 방향을 따라서 나란히 이격되고 서로 평행하게 배열되는 제 2 메시 라인 패턴을 포함하는 제 2 몰드를 통해 상기 제 1 수지 층에 도포된 제 2 수지 층에 엠보싱하여 제 2 패턴 홈을 형성하는 단계; 상기 제 2 패턴 홈 중 일부에 전도성 페이스트를 충진하여, 상기 제 1 메시 전극 라인으로부터 절연된 상태의 제 2 메시 전극 라인을 형성하는 단계; 및 상기 제 2 패턴 홈 중 나머지에 전도성 페이스트를 충진하여, 상기 제 1 메시 전극 라인에 전기적으로 연결된 연결부 전극을 형성하는 단계를 포함할 수 있다.-
dc.title복층의 패시브 매트릭스형 투명 기판 및 그 제조 방법-
dc.title.alternativeMULTI-LAYERED PASSIVE MATRIX TYPE TRANSPARENT SUBSTRATE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF-
dc.typePatent-
dc.type.rimsPAT-
dc.contributor.localauthor이승섭-
dc.contributor.nonIdAuthor김동진-
dc.contributor.nonIdAuthor조문형-
dc.contributor.nonIdAuthor이정우-
dc.contributor.assignee한국과학기술원,주식회사 제이마이크로-
dc.identifier.iprsType특허-
dc.identifier.patentApplicationNumber10-2021-0021560-
dc.identifier.patentRegistrationNumber10-2396680-0000-
dc.date.application2021-02-18-
dc.date.registration2022-05-06-
dc.publisher.countryKO-
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ME-Patent(특허)
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