배경 기술 기재 의무화에 대한 고찰(A) review on duty of description of background art

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매년 특허 출원량은 증가하고 있고, 선행 기술 조사의 범위는 외국에서의 공지, 공용된 기술까지 확대되며 심사는 더욱 어려워졌다. 대부분의 국가에서 특허 출원 시 출원인에게 정보 개시를 요구하며 심사의 편의를 도모하고 있고, 우리나라에서도 2011년 특허법 개정을 통해 제42조 제3항 제2호를 신설하며 명세서에 배경 기술을 기재하는 것을 의무화하였다. 그러나, 2017년 명세서에 기재된 배경 기술을 출원일 이전에 공지된 기술로 보지 않겠다는 취지의 대법원 판결이 나오며, 특허성 판단 시 배경 기술에 대한 취급에도 변화가 있어, 특허법 제42조 제3항 제2호의 실효성에 의문을 품게 되었다. 더욱이 시행된 지 10년이 되어가고 있는 이 시점에서 본래의 개정 취지대로 심사 효율화에 긍정적인 영향을 주고 있는지, 제대로 운영되고 있는지 검토해볼 필요가 있다. 미국, 일본, 유럽 연합, 중국의 다른 IP5국의 정보 개시 제도와의 비교해보고, 더욱 효과적인 정보 개시를 위한 특허법 제42조 제3항 제2호의 개정안을 제안하고자 한다.
Advisors
이은경Lee, Eun-Kyeong
Description
한국과학기술원 :지식재산대학원프로그램,
Publisher
한국과학기술원
Issue Date
2021
Identifier
325007
Language
kor
Description

학위논문(석사) - 한국과학기술원 : 지식재산대학원프로그램, 2021.2,[ⅳ, 47 p. :]

Keywords

배경 기술▼a선행 기술 문헌 정보▼a정보 개시▼a공지 기술▼a명세서 기재 요건; Background art▼aPrior art document information▼aInformation disclosure▼aPrior art▼aDescription requirement

URI
http://hdl.handle.net/10203/296241
Link
http://library.kaist.ac.kr/search/detail/view.do?bibCtrlNo=948402&flag=dissertation
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IP-Theses_Master(석사논문)
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