금속 산화물 박막의 형성 방법 및 금속 산화물 박막 프린팅 장치Method of forming metal oxide thin film and metal oxide thin film printing apparatus

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dc.contributor.author유승협ko
dc.contributor.author최정민ko
dc.contributor.author박종혁ko
dc.date.accessioned2021-03-30T00:50:44Z-
dc.date.available2021-03-30T00:50:44Z-
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/10203/282169-
dc.description.abstract본 발명은 기상 제트 프린팅을 이용한 금속 산화물 박막의 형성 방법 및 금속 산화물 박막 프린팅 장치에 관한 것으로, 상기 금속 산화물 박막의 형성 방법은, 제1 금속 산화물 전구체를 기화시키는 것; 기화된 상기 제1 금속 산화물 전구체를 제1 캐리어 가스를 이용하여 혼합 챔버로 유입시키는 것; 유입된 상기 제1 금속 산화물 전구체를 상기 혼합 챔버의 하단에 연결된 마이크로 노즐을 통해 기판 상으로 분사하여, 상기 기판 상에 제1 금속 산화물 전구체층을 형성하는 것; 및 상기 제1 금속 산화물 전구체층에 전자기파를 조사하여 제1 금속 산화물층을 형성하는 것을 포함할 수 있다.-
dc.title금속 산화물 박막의 형성 방법 및 금속 산화물 박막 프린팅 장치-
dc.title.alternativeMethod of forming metal oxide thin film and metal oxide thin film printing apparatus-
dc.typePatent-
dc.type.rimsPAT-
dc.contributor.localauthor유승협-
dc.contributor.nonIdAuthor최정민-
dc.contributor.nonIdAuthor박종혁-
dc.contributor.assignee한국전자통신연구원,한국과학기술원-
dc.identifier.iprsType특허-
dc.identifier.patentApplicationNumber10-2014-0078173-
dc.identifier.patentRegistrationNumber10-2233750-0000-
dc.date.application2014-06-25-
dc.date.registration2021-03-24-
dc.publisher.countryKO-
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EE-Patent(특허)
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