반도체 제조용 초순수 생산기술 동향 및 국산화 필요성Current Research Trends and the Need for Localization in Ultrapure Water Production Facilities in Semiconductor Industries

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목적:본 연구에서는 대외 의존성이 높은 초순수 분야에 대한 시장현황, 특허출원 및 기술 동향을 분석하여 기술의존성 탈피를 위한 초순수 생산기술 국산화 기술개발의 방향성을 검토하고자 한다. 방법:초순수 분야의 시장 및 특허분석, 특히, 기술을 선점하고 있는 일본 및 미국, 유럽의 공정기술을 보유한 기업들을 분석하였다. 또한, 제거대상 물질별 공정기술, 핵심소재의 연구동향, 특허 출원동향 등을 세밀히 분석하였다. 결과 및 토의:고순도 공업용수 분야의 시장분석 결과 ’24년까지 자본투자는 399억달러로 연평균 4.1%의 꾸준한 성장세가 예상된다. 초순수 생산을 위해 요구되는 수처리 단위공정은 점점 더 복잡하고 다양해지고 있으며 최근 단위 공정의 기술 발전은 수처리를 위한 약품을 절감하기 위해 전기탈이온(EDI)과 같은 친환경 수처리공정을 개발하는 추세이다. 또한, 난분해성 미량 물질(i.e. Urea, THM, IPA 등)의 처리를 위한 신공정 개발에 관한 연구를 진행 중이다. 초순수 관련 특허 동향 분석 결과 일본의 소수 기업에서 전세계 특허의 71%를 점유하고 있다. 결론:초순수 생산기술에서는 공정의 설계가 중요하며 단위 공정의 설계뿐만 아니라 단위 공정을 조합하여 배치하는 시스템의 설계가 초순수 기술의 핵심이다. 초순수 생산을 위한 단위 공정에 대한 기술을 보유한 국내 기업들은 다양하게 있으나, 현장 적용이 가능한 상용화 기술 및 운영을 통한 성능 보장 능력이 부족한 실정이다. 따라서 초순수 분야의 국산화 기술 개발은 단위 공정의 경우 현장 적용을 위한 테스트베드의 구축이 필요하며 수요처가 함께 기술 개발에 참여한다면 특정 국가의 소수만이 보유하고 있는 초순수 생산기술의 국산화 개발이 앞당겨질 것으로 예상된다.
Publisher
대한환경공학회
Issue Date
2020-10
Language
Korean
Citation

대한환경공학회지, v.42, no.10, pp.493 - 512

ISSN
1225-5025
DOI
10.4491/KSEE.2020.42.10.493
URI
http://hdl.handle.net/10203/281399
Appears in Collection
CE-Journal Papers(저널논문)
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