고분자-고분자 복합체에서 규소 함유 고분자 층 분리 방법Method for separating polymer layer containing sillicon from polymer-polymer composite

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다양한 실시예들에 따른 고분자-고분자 복합체에서 규소 함유 고분자 층 분리 방법은, 표면에 규소 함유 고분자 층이 형성된 고분자 복합체를 용매(solvent)와 비드(bead)들을 포함하는 현탁액을 이용하여 규소 함유 고분자 층을 스웰링(swelling)시키고 떼어내고, 고분자 복합체를 현탁액으로부터 분리시키고, 고분자 복합체를 용매로 세척하고, 이에 따라 고분자 층의 나머지가 고분자 복합체로부터 용매로 분리되고, 고분자 복합체를 용매로부터 분리시키고, 고분자 복합체를 건조시키도록 구성될 수 있다.
Assignee
한국과학기술원
Country
KO (South Korea)
Application Date
2020-05-14
Application Number
10-2020-0057456
Registration Date
2020-09-21
Registration Number
10-2160380-0000
URI
http://hdl.handle.net/10203/276459
Appears in Collection
CBE-Patent(특허)
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