높은 공간 선택성을 가지는 선형 플라즈마 발생 장치Linear type plasma source with high spatial selectivity
| DC Field | Value | Language |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | 임유봉 | ko |
| dc.contributor.author | 최원호 | ko |
| dc.date.accessioned | 2020-08-18T01:55:19Z | - |
| dc.date.available | 2020-08-18T01:55:19Z | - |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/10203/275851 | - |
| dc.description.abstract | 본 발명의 일 실시예에 따른 유전체 장벽 방전 플라즈마 발생 장치는 유전체 장벽 방전을 위한 노출 부위를 포함하는 전력 전극, 상기 전력 전극을 마주보는 접지 전극, 및 상기 전력 전극에 배치된 유전체 장벽부를 포함한다. 상기 유전체 장벽 방전 플라즈마 발생 장치는 적어도 하나의 메인 개구부와 제1 방향으로 이격되어 배치된 적어도 하나의 보조 개구부를 포함하고 상기 제1 방향으로 연장되고 피처리물과 상기 전력 전극의 상기 노출 부위가 서로 마주보는 제1 영역에 배치되어 상기 메인 개구부를 통하여 플라즈마를 발생시키어 상기 피처리물을 상기 제1 방향의 위치에 따라 선택적으로 플라즈마 처리하는 마스크부; 상기 접지 전극의 내부에 매설되고 상기 제1 방향을 따라 상기 전력 전극의 상기 노출 부위에 균일하게 제1 가스를 공급하는 메인 가스 분배부; 및 상기 접지 전극의 내부에 매설되고 상기 보조 개구부를 통하여 제2 가스를 제공하여 상기 제1 방향을 따른 압력을 제어하는 보조 가스 분배부;를 포함한다. | - |
| dc.title | 높은 공간 선택성을 가지는 선형 플라즈마 발생 장치 | - |
| dc.title.alternative | Linear type plasma source with high spatial selectivity | - |
| dc.type | Patent | - |
| dc.type.rims | PAT | - |
| dc.contributor.localauthor | 최원호 | - |
| dc.contributor.nonIdAuthor | 임유봉 | - |
| dc.contributor.assignee | 주식회사 플라즈맵 | - |
| dc.identifier.iprsType | 특허 | - |
| dc.identifier.patentApplicationNumber | 10-2016-0035073 | - |
| dc.identifier.patentRegistrationNumber | 10-1804561-0000 | - |
| dc.date.application | 2016-03-24 | - |
| dc.date.registration | 2017-11-28 | - |
| dc.publisher.country | KO | - |
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