빔 분할 다중 접속 방식을 지원하는 통신 시스템에서 빔 패턴 조정 장치 및 방법APPARATUS AND METHOD FOR ADJUSTING BEAM PATTERN IN COMMUNICATION SYSTEM SUPPORTING BEAM DIVISION MULTIPLE ACCESS SCHEME

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본 발명은 빔 분할 다중 접속(Beam Division Multiple Access: BDMA) 방식을 지원하는 통신 시스템에서 빔 패턴 조정 장치의 빔 패턴 조정 방법에 있어서, 상기 빔 패턴 조정 장치가 포함하는 배열 안테나가 포함하는 안테나 엘리먼트(element)들 각각에 대한 전압 정재파비(Voltage Standing Wave Ratio: VSWR) 값이 임계 VSWR 값 이상인지 검사하는 과정과, 상기 안테나 엘리먼트들 중 그 VSWR 값이 임계 VSWR 값 이상인 안테나 엘리먼트가 존재할 경우, 상기 안테나 엘리먼트들 각각에 대한 동작 가능 여부를 검출하는 과정과, 상기 안테나 엘리먼트들 각각에 대한 동작 가능 여부를 기반으로 빔 패턴을 조정하는 과정을 포함함을 특징으로 한다.
Assignee
삼성전자주식회사,한국과학기술원
Country
KO (South Korea)
Application Date
2014-04-30
Application Number
10-2014-0052744
Registration Date
2020-05-12
Registration Number
10-2112003-0000
URI
http://hdl.handle.net/10203/274477
Appears in Collection
EE-Patent(특허)
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