펨토초 레이저에 의해 나노 보이드 어레이 형성을 통한 절단방법Substrate Dicing Method by Nano Void Array Formation using Femtosecond Pulse Lasers
| DC Field | Value | Language |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | 김승우 | ko |
| dc.contributor.author | 김영진 | ko |
| dc.contributor.author | 김윤석 | ko |
| dc.contributor.author | 유준호 | ko |
| dc.contributor.author | 김승만 | ko |
| dc.contributor.author | 한승회 | ko |
| dc.date.accessioned | 2020-03-27T05:20:53Z | - |
| dc.date.available | 2020-03-27T05:20:53Z | - |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/10203/273708 | - |
| dc.description.abstract | 본 발명은 펨토초 레이저에 의해 나노 보이드 어레이 형성을 통한 절단방법에 관한 것으로, 극초단 펨토초 레이저를 개구수(NA)가 0.7 내지 0.95를 가지는 집광렌즈로 집광시켜 투명재료 또는 기판에 조사함으로써, 비선형 커렌즈(Kerr Lens) 현상에 의한 자체 집속(Self Focusing)과 다중광자이온화(Multi-Photon Ionization) 현상에 의한 플라즈마 디포커싱(Plasma Defocusing) 되도록 하여 기판에 나노 보이드 어레이(Nano-Void Array)를 형성한 후 절단하는 것을 특징으로 한다. 이와 같이 구성되는 본 발명은 나노 보이드 어레이를 형성하여 투명재료의 절단 및 가공 효율을 향상시킬 수 있고, 기존에 불가능한 얇은 투명재료의 효율적인 절단 및 가공을 가능한 이점이 있다. | - |
| dc.title | 펨토초 레이저에 의해 나노 보이드 어레이 형성을 통한 절단방법 | - |
| dc.title.alternative | Substrate Dicing Method by Nano Void Array Formation using Femtosecond Pulse Lasers | - |
| dc.type | Patent | - |
| dc.type.rims | PAT | - |
| dc.contributor.localauthor | 김승우 | - |
| dc.contributor.assignee | 한국과학기술원 | - |
| dc.identifier.iprsType | 특허 | - |
| dc.identifier.patentApplicationNumber | 10-2010-0059233 | - |
| dc.identifier.patentRegistrationNumber | 10-1181719-0000 | - |
| dc.date.application | 2010-06-22 | - |
| dc.date.registration | 2012-09-05 | - |
| dc.publisher.country | KO | - |
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