3D 나노 구조체 제조 방법 및 3D 나노 소자 제조 방법3D NANO STRUCTURE MANUFACTURING METHOD AND 3D NANO DEVICE MANUFACTURING METHOD
본 발명의 실시예에 따른 3D 나노 구조체 제조 방법은 기판상에 희생층을 형성하는 단계, 상기 희생층상에 나노물질을 형성하는 단계, 상기 나노물질이 형성된 상기 희생층상에 열처리 공정을 수행하는 단계, 상기 나노물질이 형성된 상기 희생층상에 건식 플라즈마 에칭을 수행하는 단계; 상기 기판, 상기 에칭된 희생층, 및 상기 나노물질 상에 인캡슐레이션(encapsulation) 물질을 형성하여, 상기 인캡슐레이션 물질, 상기 나노물질 및 상기 에칭된 희생층으로 구성된 소정의 시트를 제작하는 단계 및 상기 소정의 시트를 상기 기판으로부터 분리하여 형성된 3D 나노 구조체를 준비하는 단계를 포함할 수 있다.
- Assignee
- 한국과학기술원
- Country
- KO (South Korea)
- Application Date
- 2017-12-29
- Application Number
- 10-2017-0184098
- Registration Date
- 2019-12-19
- Registration Number
- 10-2059349-0000
- Appears in Collection
- EE-Patent(특허)
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