개시제를 이용한 화학 기상 증착법을 이용한 고분자 감압 접착제의 제조방법Method of Preparing Polymer Pressure Sensitive Adhesives Using Initiated Chemical Vapor Deposition
본 발명은 개시제를 이용한 화학 기상 증착법(iCVD, initiated chemical vapor deposition)을 이용하여 친핵체 단량체와 친전자체 단량체 및 개시제를 연쇄 중합 반응 시켜 얇은 두께에서도 다양한 기재에 대한 우수한 접착력 및 다양한 조건에서의 우수한 저항성을 가지는 고분자 감압 접착제를 제조하는 방법을 제공하는데에 있다.
- Assignee
- 한국과학기술원
- Country
- KO (South Korea)
- Application Date
- 2017-10-31
- Application Number
- 10-2017-0143041
- Registration Date
- 2019-10-22
- Registration Number
- 10-2037335-0000
- Appears in Collection
- CBE-Patent(특허)
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