산화피막을 포함하는 내부식성 금속 및 이의 제조방법ANTI-CORROSIVE METAL HAVING OXIDE LAYER AND METHOD FOR PREPARING THE SAME

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dc.contributor.author조성오ko
dc.contributor.author박양정ko
dc.contributor.author김정우ko
dc.date.accessioned2019-10-08T03:20:10Z-
dc.date.available2019-10-08T03:20:10Z-
dc.date.issued2019-09-26-
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/10203/267814-
dc.description.abstract본 발명은 금속 소재의 고온 산화 시 공동, 미세균열, 기공 등을 포함한 여러 가지의 결함을 가진 비보호적인 스케일로 성장하는 산화거동을 예방하기 위해, 고온 환경 노출 이전에 산화피막을 형성하여 산화속도를 억제하는 방법 및 이에 따라 제조되는 내부식성 금속에 관한 것으로, 금속 산화막 격자 내 침입형 양이온, 음이온 공공과 같은 이온 결함 농도를 줄일 수 있는 원소를 도펀트로 포함시켜 금속표면에 산화피막을 형성한다. 도펀트 원소로 산소 원자보다 원자가가 높은 불소 등의 원소를 첨가해 이온 결함의 농도를 줄여 음이온 확산속도를 줄여 소재의 내부식성 향상에 기여할 것으로 기대된다.-
dc.title산화피막을 포함하는 내부식성 금속 및 이의 제조방법-
dc.title.alternativeANTI-CORROSIVE METAL HAVING OXIDE LAYER AND METHOD FOR PREPARING THE SAME-
dc.typePatent-
dc.type.rimsPAT-
dc.contributor.localauthor조성오-
dc.contributor.nonIdAuthor박양정-
dc.contributor.assignee한국과학기술원-
dc.identifier.iprsType특허-
dc.identifier.patentApplicationNumber10-2017-0070826-
dc.identifier.patentRegistrationNumber10-2027958-0000-
dc.date.application2017-06-07-
dc.date.registration2019-09-26-
dc.publisher.countryKO-
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NE-Patent(특허)
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