레이저 기반 화학기상증착 공정으로 합성된 탄소나노물질을 이용한 회로 수리 방법CIRCUIT REPAIR METHOD VIA CARBON NANOMATERIAL SYNTHESIZED BY LASER CHEMICAL VAPOR DEPOSITION
본 발명은, 레이저 기반의 화학기상증착(CVD) 공정을 이용해 회로 기판을 수리하는 공정에 관한 것으로, 본 발명의 일 측면에 따르는 회로 수리 방법은, 결함이 형성된 회로 기판을 준비하는 단계; 상기 회로 기판 상에 탄소층을 형성하는 단계; 상기 회로 기판 상의 탄소층 상에 금속층을 형성하는 단계; 및 상기 탄소층 및 금속층이 증착된 회로 기판에 레이저를 조사하는 단계;를 포함한다.
- Assignee
- 한국과학기술원
- Country
- KO (South Korea)
- Issue Date
- 2019-09-17
- Application Date
- 2018-01-23
- Application Number
- 10-2018-0008321
- Registration Date
- 2019-09-17
- Registration Number
- 10-2024458-0000
- Appears in Collection
- MS-Patent(특허)
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