표본화를 이용한 임피던스 크기 및 위상 측정 회로IMPEDANCE MAGNIUDE AND PHASE MEASUREMENT CIRCUIT USING SAMPLING SCHEME

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dc.contributor.author유형준ko
dc.contributor.author권순재ko
dc.contributor.author박정호ko
dc.contributor.author신성헌ko
dc.date.accessioned2019-04-15T18:14:46Z-
dc.date.available2019-04-15T18:14:46Z-
dc.date.issued2017-12-12-
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/10203/257107-
dc.description.abstract표본화를 이용한 임피던스 크기 및 위상 측정 회로가 개시된다. 일 실시예에 따르면, 기준저항과 측정 대상 물질에 각각 나타나는 기준신호 및 물질신호로부터 두 비교기를 이용하여 두 가지 클락 신호를 얻고, 그 클락 신호들을 XOR 또는 XNOR 연산을 하여 임피던스의 위상을 측정함과 더불어, 그 두 클락 신호를 이용하여 기준신호와 물질신호의 표본화를 수행한다. 다른 실시예에 따르면, 소정 주파수 미만의 신호가 인가되는 경우에는 두 비교기를 이용하여 얻은 두 클락 신호를 통해 표본화를 수행하는 반면, 소정 주파수 이상의 신호가 인가되었을 경우, 두 미분기를 이용하여 얻은 클락 신호를 통해 표본화를 수행하여 임피던스의 크기를 측정한다. 비교기를 이용한 표본화는 기존 회로들의 재이용을 가능케 하여, 저전력 소모 및 회로 소형화를 가능하게 해준다. 미분기를 이용한 표본화는 소정 주파수 이상의 신호 인가 시 측정의 정확도를 향상시킨다. 또한, 회로 소형화 및 불필요한 전력모소의 방지를 가능하게 해준다.-
dc.title표본화를 이용한 임피던스 크기 및 위상 측정 회로-
dc.title.alternativeIMPEDANCE MAGNIUDE AND PHASE MEASUREMENT CIRCUIT USING SAMPLING SCHEME-
dc.typePatent-
dc.type.rimsPAT-
dc.contributor.localauthor유형준-
dc.contributor.nonIdAuthor권순재-
dc.contributor.nonIdAuthor박정호-
dc.contributor.nonIdAuthor신성헌-
dc.contributor.assignee한국과학기술원-
dc.identifier.iprsType특허-
dc.identifier.patentApplicationNumber10-2015-0140696-
dc.identifier.patentRegistrationNumber10-1810067-0000-
dc.date.application2015-10-07-
dc.date.registration2017-12-12-
dc.publisher.countryKO-
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EE-Patent(특허)
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