플라즈마 발생 장치 및 기판 처리 장치Plasma Generation Apparatus and Substrate Processing Apparatus
| DC Field | Value | Language |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | 장홍영 | ko |
| dc.contributor.author | 서상훈 | ko |
| dc.contributor.author | 박기정 | ko |
| dc.date.accessioned | 2019-04-15T17:13:41Z | - |
| dc.date.available | 2019-04-15T17:13:41Z | - |
| dc.date.issued | 2018-03-02 | - |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/10203/256482 | - |
| dc.description.abstract | 본 발명은 플라즈마 발생 장치 및 기판 처리 장치를 제공한다. 이 플라즈마 발생 장치는 플라즈마를 형성하도록 제1 주파수의 제1 RF 전력을 공급받는 원판형의 제1 전극, 제1 전극의 둘레에 배치되고 제2 주파수의 제2 RF 전력을 공급받는 와셔 형태의 제2 전극, 제1 전극과 제2 전극 사이에 배치된 절연 스페이서, 제1 전극에 전력을 공급하는 제1 RF 전원, 및 제2 전극에 전력을 공급하는 제2 RF 전원을 포함한다. | - |
| dc.title | 플라즈마 발생 장치 및 기판 처리 장치 | - |
| dc.title.alternative | Plasma Generation Apparatus and Substrate Processing Apparatus | - |
| dc.type | Patent | - |
| dc.type.rims | PAT | - |
| dc.contributor.localauthor | 장홍영 | - |
| dc.contributor.nonIdAuthor | 서상훈 | - |
| dc.contributor.nonIdAuthor | 박기정 | - |
| dc.contributor.assignee | 한국과학기술원 | - |
| dc.identifier.iprsType | 특허 | - |
| dc.identifier.patentApplicationNumber | 10-2013-0101827 | - |
| dc.identifier.patentRegistrationNumber | 10-1836422-0000 | - |
| dc.date.application | 2013-08-27 | - |
| dc.date.registration | 2018-03-02 | - |
| dc.publisher.country | KO | - |
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