양자점 나노구조체 제조 방법 및 양자점 패턴 제조 방법 및 블록공중합체-결합(conjugated) 발광양자점manufacturing method of quantum dot nanostructure and quantum dot pattern

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dc.contributor.author전덕영ko
dc.contributor.author정연식ko
dc.contributor.author김경목ko
dc.contributor.author심동민ko
dc.date.accessioned2019-04-15T16:41:10Z-
dc.date.available2019-04-15T16:41:10Z-
dc.date.issued2018-06-01-
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/10203/256145-
dc.description.abstract본 발명은 레이저 유도 어닐링을 이용한 양자점 나노구조체 제조 방법 및 양자점 패턴 제조 방법 및 블록공중합체-결합(conjugated) 발광양자점에 관한 것으로, 양자점을 준비하고, 블록공중합체를 준비하고, 상기 양자점과 상기 블록공중합체가 화학적으로 결합하여 블록공중합체-결합(conjugated) 양자점을 형성하고, 상기 블록공중합체-결합(conjugated) 양자점을 기재에 도포하여 블록공중합체-결합(conjugated) 양자점 필름을 형성하고, 상기 필름을 어닐링하여 상기 블록공중합체-결합(conjugated) 양자점이 자기조립현상(self-as주사전자현미경bly)을 통해 양자점 나노구조체를 형성하는 단계를 포함하여 이루어지고, 상기 어닐링은 상기 필름에 레이저 조사를 통해 수행하는 것을 특징으로 하는 양자점 나노구조체 제조 방법을 제공한다.-
dc.title양자점 나노구조체 제조 방법 및 양자점 패턴 제조 방법 및 블록공중합체-결합(conjugated) 발광양자점-
dc.title.alternativemanufacturing method of quantum dot nanostructure and quantum dot pattern-
dc.typePatent-
dc.type.rimsPAT-
dc.contributor.localauthor전덕영-
dc.contributor.localauthor정연식-
dc.contributor.nonIdAuthor김경목-
dc.contributor.nonIdAuthor심동민-
dc.contributor.assignee한국과학기술원-
dc.identifier.iprsType특허-
dc.identifier.patentApplicationNumber10-2016-0133624-
dc.identifier.patentRegistrationNumber10-1865647-0000-
dc.date.application2016-10-14-
dc.date.registration2018-06-01-
dc.publisher.countryKO-
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