다공성 절연물질 표면의 선택적 실링 방법METHOD OF SURFACE LOCALIZED PORE SEALING OF POROUS DIELECTRIC CONSTANT MATERIAL

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본 발명은 다공성 물질의 표면에 존재하는 기공을 화학 기상 증착(initiated chemical vapor deposition, iCVD) 법으로 고분자박막을 형성하여 실링하는 방법 및 그로부터 유발되는 절연상수의 증가를 최소화 하는 기법을 제공하는 것이다.
Assignee
한국과학기술원,램 리서치 코퍼레이션
Country
KO (South Korea)
Issue Date
2018-12-19
Application Date
2017-03-22
Application Number
10-2017-0036080
Registration Date
2018-12-19
Registration Number
10-1932763-0000
URI
http://hdl.handle.net/10203/254375
Appears in Collection
EE-Patent(특허)CBE-Patent(특허)
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