DC Field | Value | Language |
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dc.contributor.author | 이대식 | ko |
dc.contributor.author | 윤준보 | ko |
dc.contributor.author | 최동훈 | ko |
dc.contributor.author | 이병기 | ko |
dc.contributor.author | 정문연 | ko |
dc.contributor.author | 김승환 | ko |
dc.date.accessioned | 2019-04-15T14:42:39Z | - |
dc.date.available | 2019-04-15T14:42:39Z | - |
dc.date.issued | 2018-11-23 | - |
dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/10203/254324 | - |
dc.description.abstract | 본 발명은 반도체 공정에서 이용하는 증착 기술을 이용하여 원주상 구조를 가지는 나노 다공성 멤브레인을 제작하고, 그 제작된 나노 다공성 멤브레인의 하면을 식각하거나 시드층 및 나노 비드층을 이용하여 나노 구멍의 크기를 조절함으로써, 원주상 구조를 가지는 나노 다공성 멤브레인을 제작할 때 공정 온도를 낮추고 대면화할 수 있으며 용이하게 나노 구멍 크기를 조절할 수 있다. | - |
dc.title | 나노 다공성 멤브레인 및 그 제작 방법 | - |
dc.title.alternative | Nano Porous Membrane and manufacturing thereo | - |
dc.type | Patent | - |
dc.type.rims | PAT | - |
dc.contributor.localauthor | 윤준보 | - |
dc.contributor.nonIdAuthor | 이대식 | - |
dc.contributor.nonIdAuthor | 최동훈 | - |
dc.contributor.nonIdAuthor | 이병기 | - |
dc.contributor.nonIdAuthor | 정문연 | - |
dc.contributor.nonIdAuthor | 김승환 | - |
dc.contributor.assignee | 한국전자통신연구원,한국과학기술원 | - |
dc.identifier.iprsType | 특허 | - |
dc.identifier.patentApplicationNumber | 10-2011-0049500 | - |
dc.identifier.patentRegistrationNumber | 10-1923376-0000 | - |
dc.date.application | 2011-05-25 | - |
dc.date.registration | 2018-11-23 | - |
dc.publisher.country | KO | - |
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