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A study on the characteristics of RF multi hole cathode CCP discharge in various noble gas = 복수 홀 전극 구조를 갖는 축전 결합 RF 방전 특성에 관한 연구link Lee, Hun-su; 이헌수; et al, 한국과학기술원, 2011 |
On ion energy control of dual frequency capacitive coupled plasma for high aspect ratio process = 고 종횡비 공정을 위한 이중 주파수 축전 결합 플라즈마의 이온 에너지 제어 연구link Park, Gi-Jung; 박기정; et al, 한국과학기술원, 2016 |
Study of iaboratory plasmas via particle simulation = 실험실 플라즈마의 입자시늉 연구link Baek, Ho-Yul; 백호열; Chang, Choong-Seock; 장충석; et al, 한국과학기술원, 2009 |
(The) study of the characteristics of the dual frequency capacitively coupled plasma(DFCCP) = 이중 주파수 용량 결합 플라즈마의 특성 연구link Jeon, Bu-Il; 전부일; et al, 한국과학기술원, 2004 |
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