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고선택비 산화막 식각을 위한 시간 변조된 유도 결합 $CF_4/H_2$ 플라즈마에 대한 이론적 연구 = Theoretical investigation on time modulated, inductively coupled $CF_4/H_2$ plasma discharges for highly selective oxide etchinglink 조용석; Cho, Yong-Seok; 장충석; Chang, Choong-Seock, 한국과학기술원, 2000 |
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