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Development of flash memory using high-k dielectrics by the improvement of charge trap layer and blocking oxide layer and its theory = 고유전막을 이용한 전하포획막과 차단산화막의 향상을 이용한 플래쉬 메모리 개발 및 그 이론link Park, Young-Min; 박영민; et al, 한국과학기술원, 2011 |
Electrical characterization and neuromorphic application of 3-dimensional semiconductor devices = 3차원 구조 반도체 소자의 전기적 특성과 뉴로모픽 소자로의 응용link Kim, Seong-Yeon; Choi, Yang-Kyu; et al, 한국과학기술원, 2020 |
Engineering of source/drain junctions in MOSFETs and its application to memory cells = MOSFET의 소스/드레인 전극의 엔지니어링 및 메모리 셀로의 응용link Choi, Sung-Jin; 최성진; et al, 한국과학기술원, 2012 |
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