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(A) Study on Effects of Thickness and Preferred Orientation on Dielectric Constant of Hf-Aluminate Film Deposited by PEALD = PEALD법으로 증착된 Hf-Aluminate 박막의 두께와 우선배향성이 유전상수에 미치는 영향에 관한 연구link Moon, Hyoung-Seok; 문형석; et al, 한국과학기술원, 2008 |
(A) study on the $La_2O_3$ and La-Al-O films deposited by plasma-enhanced atomic layer deposition = PEALD 법을 이용한 $La_2O_3$ 및 La-Al-O 박막의 Gate 절연체 특성에 관한 연구link Kim, Ji-Hye; 김지혜; et al, 한국과학기술원, 2009 |
(A) study on the plasma-enhanced atomic layer deposition of $SrTiO_3$ thin films = PEALD 법으로 증착된 $SrTiO_3$ 박막 증착 및 특성에 관한 연구link Kim, Ja-Yong; 김자용; et al, 한국과학기술원, 2003 |
(A) study on the plasma-enhanced atomic layer deposition of RuTiN thin films = PEALD 법으로 증착된 RuTiN 박막 증착 및 특성에 관한 연구link Kwon, Se-Hoon; 권세훈; et al, 한국과학기술원, 2004 |
(A) study on the plasma-enhanced atomic layer deposition of TaN thin films = Peald 법으로 증착된 TaN 박막 특성에 관한 연구link Chung, Hoi-Sung; 정회성; et al, 한국과학기술원, 2004 |
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