Showing results 1 to 1 of 1
과산화수소 산화제 기반 원자층 증착을 이용한 $Hf_{0.5}Zr_{0.5}O_2$ 강유전체 박막 제조 = Fabrication of ㄹerroelectric $Hf_{0.5}Zr_{0.5}O_2$ Thin Film by Atomic Layer Deposition (ALD) using $H_2O_2$ Oxidantlink Kim, Hyoung Kyu; Hong, Seungbum; et al, 한국과학기술원, 2020 |
Discover