DC Field | Value | Language |
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dc.contributor.author | 양승만 | ko |
dc.date.accessioned | 2017-12-21T00:53:07Z | - |
dc.date.available | 2017-12-21T00:53:07Z | - |
dc.date.issued | 2007-07-30 | - |
dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/10203/237057 | - |
dc.description.abstract | 본 발명은 광가교 가능한 콜로이드 입자를 이용한 다차원 나노패턴 형성방법에 관한 것으로 보다 상세하게는 광가교가 가능한 콜로이드 입자를 기판에 도포한 후 콜로이드 입자에 선택적으로 광가교를 시키고 가열한 후 기판을 식각하여 선택적으로 나노패턴을 형성하는 방법에 관한 것이다. 본 발명의 광가교 가능한 콜로이드 입자를 이용한 나노패턴 형성방법은광가교 가능한 콜로이드 입자를 기판에 자가배열 시키는 단계,광가교 가능한 콜로이드가 배열된 기판 위에 마스크를 구비하고 선택적으로 광을 조사한 후 기판을 가열하여 가교되지 않은 콜로이드 입자를 변형시키는 단계,콜로이드 입자를 변형시킨 후 기판을 식각한 다음 고분자 콜로이드 입자를 제거하는 단계를 포함하도록 하여 기판에 선택적인 부분에만 나노패턴을 형성할 수 있다. | - |
dc.title | 광가교 가능한 콜로이드 입자를 이용한 다차원 나노패턴형성방법 | - |
dc.title.alternative | Two-dimensional hierarchical nanopatterning bycolloidal lithography using photocrosslinkableparticles | - |
dc.type | Patent | - |
dc.type.rims | PAT | - |
dc.contributor.localauthor | 양승만 | - |
dc.contributor.assignee | 한국과학기술원 | - |
dc.identifier.iprsType | 특허 | - |
dc.identifier.patentApplicationNumber | 10-2005-0070984 | - |
dc.identifier.patentRegistrationNumber | 10-0746332-0000 | - |
dc.date.application | 2005-08-03 | - |
dc.date.registration | 2007-07-30 | - |
dc.publisher.country | KO | - |
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