나노미터 수준으로 패턴화된 고분자 박막의 제조 방법Fabrication Method of Patterned Polymer Film withNanometer Scale
본 발명의 제 1측면에 따른 방법은 연성 고분자 주형에 구비된 패턴내에 소정 크기의 입자를 충진하여 양각의 스탬프를 제조하는 단계; 상기 양각의 스탬프를 원하는 고분자 박막위에 올려두고, 상기 고분자 박막의 유리전이 온도이상에서 일정시간 방치하는 단계; 및 상기 양각의 스탬프를 고분자 박막으로부터 분리하는 단계를 포함하는 패턴화된 고분자 박막의 제조방법을 제공한다. 또한, 제 2측면에 따른 본 발명은 연성 고분자 주형에 구비된 패턴내에 소정 크기의 입자를 충진하여 양각의 스탬프를 제조하는 단계; 소정 기판위에 형성된 폴리머전구체의 코팅층에 상기 양각의 스탬프가 놓이도록 하고, 상기 코팅층을 경화시키는 단계; 및 상기 양각의 스탬프를 경화된 상기 코팅층으로부터 분리하는 단계를 포함하는 패턴화된 고분자 박막의 제조방법을 제공한다
- Assignee
- 한국과학기술원
- Country
- KO (South Korea)
- Issue Date
- 2005-08-05
- Application Date
- 2003-06-27
- Application Number
- 10-2003-0042676
- Registration Date
- 2005-08-05
- Registration Number
- 10-0508337-0000
- Appears in Collection
- CBE-Patent(특허)
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