본 발명은 기판(substrate) 상에 유기분자 박막을 형성시킨 다음, 열처리에 의해 유기분자들의 자기조립(self-assembly)을 유도하고, 이에 따라 형성된 일정한 구조에 선택적으로 금속을 화학흡착(stanning)시킨 후, 에칭(etching)하는 단계를 포함하는 나노미터 또는 그 이하 사이즈의 패턴을 형성하는 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 나노패턴은 기록소자, 탄소나노튜브 제조용 주형(template), 새로운 나노패턴의 형성을 위한 마스크, 분리용 막의 소재 개발 등에 유용하게 활용될 수 있다.